恒温循环水槽M30

大容量恒温水槽M55P，工作温度范围内的过温安全保护功能，保护实验安全；具有断电记忆功能；具有机械限温和超温保护，双重保护，使用更放心；适合内部和外循环应用，应...

大容量恒温水槽M150可选配1.RS485通讯接口；2. 可选配嵌入式不锈钢盖，用于更紧凑的空间需求；3.可选配SUS304液槽隔板，用于浸入式实验需求；

精密恒温水浴槽M20采用PID温度控制技术，恒温波动度±0.05℃，低噪音设计，免除实验室噪音难题。

精密恒温水槽设备（室温+5℃～100℃）M10提供一个温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热或辅助加热热源，可实现室温+5℃～100℃温度控制，整个量程范围的温度...

实验室恒温浴槽M160，容积80L，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.05℃，用于样品保存、分析测试、石油、化工、电子仪表、生物工程、医药卫...

MD5-20低温恒温循环槽提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度...

大容量恒温水槽M120

恒温循环水槽M20

小型精密恒温水槽M5

大容量恒温水槽（RT+5℃～95℃）

精密恒温水槽（室温+5℃～95℃）

恒温循环水槽M40提供一个温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热或辅助加热热源，可实现室温+5℃～100℃温度控制，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度&...

低温恒温循环槽（-5℃～90℃）MD20-8可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制...

大容量恒温水槽M360，容积360L，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度±0.1℃，用于样品保存、分析测试、石油、化工、电子仪表、生物工程、医药卫...

精密恒温水槽M20提供一个温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热或辅助加热热源，可实现室温+5℃～100℃温度控制，整个量程范围的温度精确控制，恒温波动度...

低温恒温循环槽（-5℃～90℃），MD20-4可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控...

低温恒温循环槽（-5℃～90℃），MD5-100提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控...

低温恒温循环槽（-5℃～90℃）MD5-54，容积54L，控温范围-5℃～90℃，可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度精确控...

精密恒温水槽（室温+5℃～90℃）精密恒温水槽提供一个温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热或辅助加热热源，可实现室温+5℃～100℃温度控制，整个量程范围的温度...