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迈可诺技术有限公司
等离子源真空接口 | NW/KF40 法兰 |
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远程等离子清洁的原理
远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。
技术特点:
快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵
低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合多级气体过滤技术,SEMI-KLEEN能够满足用户苛刻的颗粒污染清除要求
可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用
*的等离子强度传感器可实时监测等离子状态,用户对等离子状态一目了然
基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器,无需手动调节针阀
直观的触摸屏操作,可定义60条清洗程序方案
拥有智能安全操作模式和专家控制模式;SmartScheduleTM定时装置,通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统
技术指标
1. 等离子源真空接口:NW/KF40 法兰; 提供转接法兰;
2. 标配等离子强度传感器;
3. 等离子源低点火起辉气压:<0.1毫托;
4. 等离子源Z高工作气压:>1.0 托;
5. 漏气率:<0.005sccm;
6. 射频输出:0~100瓦,连续可调节;
7. 具有射频自动匹配功能
8. 电源和功率:220V, 50Hz,
产品相关关键字: 等离子清洗仪 SEMI-KLEEN 扫描电镜等离子清洗 透射电镜等离子清洗 等离子清洗机 |
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