详细摘要： PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品型号：PPC973所在地：上海市更新时间：2022-10-15 在线留言污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
迈可诺技术有限公司
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详细摘要： PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品型号：PPC973所在地：上海市更新时间：2022-10-15 在线留言
详细摘要： 远程等离子清洁的原理远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基...
产品型号：EM-KLEEN所在地：上海市更新时间：2022-10-14 在线留言
详细摘要： PSD Pro系列：PSDP 系列产品是研究级的紫外臭氧清洗系统，具有*的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多的应用。可以直接在空气中操作，或是通过其中一个进气...
产品型号：PSDP-UV4T所在地：上海市更新时间：2022-10-04 在线留言
详细摘要： PSD系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高...
产品型号：PSD-UV8所在地：上海市更新时间：2022-10-03 在线留言
详细摘要： Harrick 氧等离子表面处理仪除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：等离子体表面处理仪的等离子体作用于材料表面，使表面分子的...
产品型号：PDC-002所在地：上海市更新时间：2022-10-03 在线留言
详细摘要： 1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；2）腔体容积：2.6L；3）腔体尺寸：内径：110毫米，深度：280毫米。
产品型号：Tergeo所在地：上海市更新时间：2022-07-22 在线留言
详细摘要： 1、13.56MHz高频射频发生器；2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；3、标配75W版本，可选150W版本；4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表...
产品型号：Tergeo-Plus所在地：上海市更新时间：2022-07-22 在线留言
详细摘要： 进口狭缝涂布仪英国OSSILA系统为您的研究提供以下益处：•不锈钢槽模头为您提供均匀的分配解决方案•内置便捷的操作软件 - 该系统拥有自己的独立数字控制系统，因...
产品型号：L2005A1所在地：上海市更新时间：2021-07-23 在线留言
详细摘要： 狭缝式薄膜涂布机（狭缝挤出式涂布机/钙钛矿太阳能电池涂布机）适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
产品型号：CS18所在地：上海市更新时间：2021-06-07 在线留言
详细摘要： Harrick 气体流量控制器技术参数：紧凑的台式设备、符合CE 安全标准两个标准的气体流量计（0.104 scfh & 0.22 scfh）
产品型号：PDC-FMG-2所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： 德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以...
产品型号：全系列所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： Futurrex产品优势：1、Futurrex光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（HMDS）2、负性光刻胶常温下可保存3年3、150度烘烤，缩短了烘烤时间4、单次旋...
产品型号：RD3、RD6所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： 为了获得大的过程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蚀剂之前，基材应清洁干燥。 为了获得很好的结果，应使用食人鱼湿法蚀刻（使用H2SO4和H2O2）清洁基材，然后...
产品型号：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品，非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。
产品型号：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： 恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统*的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光...
产品型号：NXQ4000系列所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： MYCRO*荷兰MMA16光刻机（Mask Aligner），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻...
产品型号：MMA16所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
详细摘要： 光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在晶片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图...
产品型号：MPEM-1600所在地：上海市更新时间：2021-05-20 在线留言
详细摘要： 简介：这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择，...
产品型号：CESx124所在地：上海市更新时间：2021-05-20 在线留言
详细摘要： WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列，全白色聚丙烯构造，可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单...
产品型号：WS-1000M所在地：上海市更新时间：2021-05-20 在线留言
详细摘要： 匀胶机（spin coater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制...
产品型号：POLOS450所在地：上海市更新时间：2021-05-20 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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