详细摘要： 产品介绍：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术
产品型号：KJ-PECVD-D1所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
郑州科佳电炉有限公司
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详细摘要： 产品介绍：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术
产品型号：KJ-PECVD-D1所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品特点：1、控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单
产品型号：KJ-OTF-1700-F5所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品介绍：KJ-CVD是一种分体式管式炉，配备60mm直径的石英管、真空泵和四通道质量流量计气体流动系统
产品型号：KJ-T1600 CVD所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品介绍：KJ-T1200CVD是一种管式炉，配备100mm直径石英管、真空泵和五通道质量流量计气体流动系统
产品型号：KJ-T1200-S440所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品介绍：该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS...
产品型号：KJ-T1200-PE所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品介绍：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
产品型号：KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 产品介绍：该双炉体CVD系统为定制款，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验
产品型号：KJ-T1200-W2所在地：郑州市更新时间：2025-05-12 在线留言
详细摘要： 简介：KJ-T1200CVD是一种管式炉，配备60mm直径氧化铝管、真空泵和四通道质量流量计+一个浮子流量计气体流动系统
产品型号：KJ-T1200所在地：郑州市更新时间：2025-05-11 在线留言环保在线 设计制作，未经允许翻录必究 .
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