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详细摘要: 酸碱废气的主要来源为化学清洗工作站,芯片清洗时会产生挥发性气体,气体中一部分会含有浓烟,一部分则会对呼吸系统有刺激性作用,故气体必须经过CentralScrub...
产品型号:所在地:更新时间:2022-03-17 在线留言详细摘要: 设计功能前置处理CVD/ETCH/IMP/DIEF/EPI等工艺机台在制程中排出的剧毒、易燃易爆及温室气体等有害气体
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产品型号:所在地:更新时间:2022-03-17 在线留言详细摘要: 设计功能吸附浓缩IC、光电产业生产过程中,黄光区内光阻涂布等制程工艺挥发的有机物,并输送至后序有机排气系统集中处理
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