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上海盛剑环境系统科技有限公司
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设计功能前置处理CVD/ETCH/IMP/DIEF/EPI等工艺机台在制程中排出的剧毒、易燃易爆及温室气体等有害气体
设计功能
前置处理CVD/ETCH/IMP/DIEF/EPI等工艺机台在制程中排出的剧毒、易燃易爆及温室气体等有害气体。经处理的废气进入后段有毒、酸碱等系统进行二次处理，实现达标排放。
适用废气
适用于泛半导体工业制程废气前端处理领域，含氟、氯、硅、氮、氢等元素为代表的温室气体，以及剧毒性、易燃性有害气体。
工艺原理
工艺机台产生的有害废气经真空管道及附属工艺真空设备，被导入LOCAL SCRUBBER内部反应腔，进行燃烧或高温分解。经燃烧或高温分解后的附产物，进入后序装置进行二次处理（干式吸附除外），从而达到安全可靠集中收集、集中处理的目的。
系统优势
高效处理大容量 SiH4,H2,NH3,PFCs等有害废气；根据所处工艺状态点，自动适配功率；三挡功率模式自动切换，极速升降温，限度缩短预热、保养用时，增加投入运营时间。
盛剑系统服务
盛剑同时提供后序酸碱系统、有毒系统等系统服务，实现从本地处理到最终达标排放的系统解决方案。
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