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上海依肯机械设备有限公司
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对于纳米的物料分散一直是人们关注的热点,纳米分散存在着难以解决的问题,纳米物料分散到流体物质当中容易形成二级团聚体,导致物料粒径变大,难以分散。面对这种情况,IKN研发出新型设备-研磨分散机,应对纳米物质的分散问题。并有着广泛的实例,如纳米级白炭黑的分散,纳米级石墨烯的分散,都在使用IKN研磨分散机进行分散处理,*。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
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级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
纳米分散机的特点
1 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。
2 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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