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C60-20S 离子源系统

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更新时间：2024-04-02 17:02:33浏览次数：44次

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束蕴仪器（上海）有限公司

经营模式：代理商

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产品简介

虽然所有离子束都会溅射或蚀刻，但我们的一些系统的表面是专为高效和快速溅射而设计的。溅射光束有三个特点：高电流、大光斑尺寸和宽视场。这些特性的结合意味着它们可以在大面积上尽快输送大剂量的离子，以优化蚀刻速率。

详细介绍

C60-20S是一种高性能离子束，设计用于溅射表面，具有小的损伤和减少的沿周溅射效应。 C60-20S在高达20 kV的电压下工作，可有效地溅射材料，且损伤小，无需重新沉积碳。 C60是XPS、AES和SIMS的理想升级组件，可在多种材料上均匀溅射。

聚合物的高速、低化学损伤蚀刻。

C60离子溅射的速度比单原子束(包括氩和氙)快50倍，同时对底层材料造成的损害要小得多。下图比较了15kev的C60溅射产率与15kev金、氙镓和氩的 TRIM数据。在相反的例子中，用C60和单原子氩离子束溅射清洗PTFE薄膜。虽然两种离子束都去除了表面污染，但只有C60离子束的表面化学性质没有发生变化。