工业的生产离不开水，大多数工业企业都是高耗水行业，尤其是半导体行业，在生产中不可避免地产生含有各种污染物的废水，其中含氟离子、含铜离子和含磷废水更为严重。

　　半导体工业废水主要包括硅片切割、磨削的废水和半导体器件封装外壳的电镀废水两部分，其中半导体器件封装外壳的电镀废水主要是指半导体集成电路器件封装外壳的电镀废水和半导体分立器件封装外壳的电镀废水，即在封装外壳的金属部件上层叠起导电和防腐作用的金属层时产生的废水，污染物主要是酸、碱、锡、铅、铜、镍等金属离子以及有机物和有机络合物。硅片切割磨削废水是在硅片切割磨削过程中产生的，其中含有大量亚微米级硅颗粒、几十纳米以下金刚砂磨粒和清洗剂。

　　莱特莱德半导体废水处理设备针对半导体废水的特点及处理难点，采用Neterfo极限分离系统，具有无变相、无污染、高效率、低耗能等诸多优点，该系统发挥了膜的优势和性能，半导体废水经过处理后，可大量回收废水中的有害重金属离子，并且不会造成二次污染，使水资源实现再次利用。Neterfo极限分离系统是针对三高废水专门开发的一套膜深度处理系统，系统采用错流式PON抗污染技术、POM宽通道高架桥旁路技术等技术，实现高回收率和低能耗的废水处理效果，是废水回用、物料浓缩和分离等领域的理想选择。

　　目前，节约用水、中水回用、废水回收利用已成为工业应对缺水危机的重要措施，特别是废水回用，既能减少对水资源的需求、降低企业生产成本、也减少了对环境的污染。