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残余气体分析四极质谱仪 详细摘要: Systems for the examination of components present in a vessel or evolved from a ...
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超高真空残余气体分析四极质谱仪 详细摘要: A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applicatio. Measures the co...
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三级过滤高分辨四极质谱仪 详细摘要: A system for high precision scientific and process applicatio. Measures the part...
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分子束外延残余气体分析四极质谱仪 详细摘要: A residual gas system configured for molecular beam epitaxy applicatio. Measures...
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分子束外延沉积速率监测/控制系统 详细摘要: A system for multiple source monitoring in MBE deposition applicatio. For molecu...
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托卡马克装置残余气体分析质谱仪 详细摘要: A system for tokamak/torus fusion research. Measures the concentration of fusion...
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IDP离子/分子分析质谱仪 详细摘要: A system for analysis of io, neutrals and radicals in UHV desorption studies. Me...
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EPIC离子/分子分析质谱仪 详细摘要: A system for UHV analysis of neutrals, radicals and io. Measures the io, neutral...
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离子源 详细摘要: A range of ion source optio for residual gas analysis.
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