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用于反射薄膜生产等的自动溅射仪SC-701AT介绍

时间:2024/12/24阅读:275
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用于反射薄膜生产等的自动溅射仪SC-701AT介绍

只需设置样品并等待即可。全自动溅射,膜厚可调。

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 离子溅射是将靶材、样品均置于真空室中;首先进行抽真空,实现辉光放电所需的低气压环境;靶材接高压,为负极;样品台接地,为正极;靶材与样品台之间形成高压电场,电离气体;气体电离后,正离子飞向负极,轰击靶材,靶材原子被溅射飞出,沉积到样品上形成导电膜。

特征

  • 从排气→镀膜(蚀刻)→大气释放全自动

  • 虽然是紧凑型,但可以控制膜厚(简易型)。

  • 全自动溅射设备,操作简单,重现性高

  • 配备镀膜/蚀刻模式

用途和结果示例

  • 将电极膜粘贴到各种设备上

  • 用于反射薄膜生产等。

基本规格

阴极φ2 英寸/2 极对置电极
溅射靶材单独出售 Au/Pt/Pd/Ag/Au-Pd/Pt-Pd
蚀刻目标包括 Al 目标
膜厚设定方法预设方式/带数显膜厚监测仪
气体导入机构针阀
真空泵直连旋转泵:20l/min(带自动泄漏)
排气操作自动的
腔室尺寸内径 φ120mm x D120mm(SUS材质)
样品交换方式前门开闭方式
尺寸(宽/深/高)机身:225/420/320mm
RP:300/160/200mm
重量本体:15kg
RP:9kg


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