三靶射频磁控溅射镀膜仪

三靶射频磁控溅射镀膜仪配有磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。

三靶射频磁控溅射镀膜仪

·标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1）

·相比传统溅射仪，体积小巧，拆装方便（图2）

·模块化设计，靶头，电源等多种可选，自由DIY（图3）

·基台可旋转可加热

·可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

1、输入电源：220V AC50/60Hz

2、设备功率：<1500W

3、靶台加热温度：500℃

4、样品台转速：0-10r/min

5、靶头可调倾角：0-25度

6、溅射腔体尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 

7、靶材尺寸要求：1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）

           2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)

8、zui高使用功率：1英寸磁控溅射靶头100W

           2英寸磁控溅射靶头300W

​合肥科晶材料技术有限公司成立于1997年，是美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院兴办的*。 公司目前主要从事氧化物晶体（A-Z）系列材料研发生产、溅射靶材制备和材料实验室及电池研发全套设备。公司从成立之初研发高温超导薄膜基片大尺寸LaAlO3单晶做起，目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶体是世界供应商。设备研发的各种高温炉，大尺寸高温高压炉，热等静压炉，单晶生长炉等，用于石墨烯、高通量、蒸发镀膜、高温超导薄膜、超导块材和线材的制备设备，涉及新能源材料，电池制备等成套设备，并为科研工作者提供材料研究解决方案，已经成为企业。