简介:
发射率测量仪TSS-5X-3是一款用于测量样品在室温下发射率的仪器。它以数字方式显示发射率值,操作简单方便。TSS-5X-3广泛应用于空间、半导体和核电等领域,帮助量化材料表面处理的微小差别。
主要特点:
表面态概率转换:通过了解发射率,可以提高加热设备的辐射效率,设计强调散热和隔热的材料,节省能源。
发射率测量原理:TSS-5X-3使用红外检测的反射能量测量方法,测量波长范围为2~22μm。
宽广测量范围:TSS-5X-3测量范围为发射率0.00-1.00,准确率评估在满量程的±1%。
具备样品温度控制: TSS-5X-3在室温下进行测量,无需加热样品,样品温度范围为10-40℃。
高清晰显示:测量值通过LED数字显示以小数点后第二位的精度呈现。
多种输出方式:提供0-0.1V、0-1V和满量程输出。
技术规格:
模型:TSS-5X-3
测量方法:使用红外检测的反射能量测量方法
测量波长范围:2~22μm
测量范围:发射率0.00-1.00
准确率评估:满量程的±1%
测量面积:Φ15mm
测量距离:12mm(检测头柱固定)
样品温度:10-40℃(室温)
测量值显示:LED数字显示(显示至小数点后第二位)
输出:0-0.1V、0-1V、满量程
工作温度/湿度范围:10~45℃/35~85℃(无凝结)
电源/电力:AC100-240V,50/60Hz,30W(不含电源线)
尺寸/质量:检测头:Φ51 x 137Lmm,0.6kg;测量单元:156H x 306W x 230Dmm,5.0kg
配件:发射率标准件存放盒:84H x 238W x 185Dmm,1.1kg;发射率标准件:0.06(镜面)、0.97(黑体),各存放1个
结语:
发射率测量仪TSS-5X-3是一款便捷的工具,可用于测量样品在室温下的发射率。它通过量化材料表面处理的微小差别,为空间、半导体和核电等领域的研发和生产提供支持。TSS-5X-3具备简单易操作的特点,以数字方式显示发射率值,并提供多种输出选项。仪器准确度高、测量范围宽广,可满足不同应用需求。
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