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河南顺博热处理设备有限公司
滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温
功能特点:
本套系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温;配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。
产品用途:
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备
产品参数
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