详细摘要： 三温区PECVD实验室设备由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成PECVD设备是借助于光放电等方法产生等离子体
产品型号：S-1700PC所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
河南顺博热处理设备有限公司
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详细摘要： 三温区PECVD实验室设备由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成PECVD设备是借助于光放电等方法产生等离子体
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详细摘要： 双温区PECVD实验室设备由滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1400度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量...
产品型号：S-1400PC所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言
详细摘要： 管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成,温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa
产品型号：S-1200PC所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言
详细摘要： CVD浮子混气系统适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品型号：S-1700S-CVD所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言
详细摘要： 混合气体化学气相沉积CVD系统由高温管式炉,真空压强控制系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,过压保护及冷凝等部分组成,可实现真空达0.1mbar混合气体化学...
产品型号：S-1200S-CVD所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言
详细摘要： 滑式真空炉CVD系统由滑动式开启式真空管式炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温
产品型号：S-1200HZ-CVD所在地：更新时间：2023-03-16 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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