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GVC-2000磁控离子溅射仪

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更新时间：2022-11-02 16:13:53浏览次数：970次

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广州智汇科学仪器有限公司

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产品简介

GVC-2000磁控离子溅射仪全自动控制，无需调整针阀镀膜颗粒小，无热损伤靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损坏内置操作向导，无需培训即可熟练操作

详细介绍

主要参数
外形尺寸	424（L）×345（D）×420（H）	输入电源	220V/800W
可用靶材	所有金属、部分化合物	靶材尺寸	φ57mm
真空室	高硅硼玻璃 φ200×130mm	工作介质	高纯氩气（≥4N）
低真空泵	旋片泵	抽速	1.1L/s
高真空泵	进口涡轮分子泵	抽速	90L/s
极限真空	≤5×10-3Pa	工作真空	0.1-3Pa
溅射电流	5-200mA 可调	溅射时间	1-999s 可调
样品台	φ125mm	样品台转速	4-20rpm 可调
显示屏	7 英寸 TFT 彩色触摸屏	抽气节拍	≤5 分钟
进气	全自动	放气	全自动
预溅射	具备预溅射挡板，全自动控制
保护功能	过流保护、真空保护、分子泵过热保护等
膜厚仪（选配）	可实时显示镀膜厚度，并通过设定来控制镀膜过程，测量精度 0.1nm，单次镀膜设定范围 1-999nm，测量范围 10μm
其它	可根据用户需要，提供定制化产品