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芬兰Picosun 原子层沉积机P-300S Pro ALD

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产品型号P-300S Pro ALD

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更新时间：2023-06-16 19:02:31浏览次数：79次

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商铺产品：420条

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产品简介

芬兰Picosun原子层沉积机P-300SProALD技术参数工艺温度：50-500°C衬底尺寸和类型：300mm晶圆/单片基片传送选件：

详细介绍

芬兰Picosun 原子层沉积机P-300S Pro ALD

技术参数

工艺温度： 50 - 500 °C

衬底尺寸和类型：300mm晶圆/单片

基片传送选件：

。半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现
。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现

标准：SEMI S2认证

前驱体：

。液态，固态，气态，臭氧源
。等离子体（仅供200mm晶圆使用，最多4路气体）
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。6条独立源管线,最多加载8个前驱体源（最多12个前驱体源，加上plasma管路共7根独立源管线）

重量：820 kg

尺寸：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

选件：集群工具，PICOFLOW™扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准：

。标准设备验收标准为Al2O3工艺，
。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：
- 不均匀性
- 颗粒物含量
- 重金属污染
- 电学性能