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沈阳好智多新材料制备技术有限公司
「设备用途」采用物理冶金提纯法,主要用于冶金级工业硅粉的提纯,用以制备太阳能级多晶硅原材料
「设备用途」
采用物理冶金提纯法,主要用于冶金级工业硅粉的提纯,用以制备太阳能级多晶硅原材料。
「技术指标」
产品型号 | VITD-2 | |
主真空室 | 立式圆筒型真空室,尺寸φ1500×2400mm,双层水冷。 | |
真空系统配置 | 扩散泵,罗茨泵,机械泵,高真空气动挡板阀。 | |
极限真空度 | 6.6×10-3Pa(冷态),漏率:≤1×10-8Pa.L/s;压升率:≤6.7×10-1Pa./m。 | |
感应熔炼系统 | 加热温度 | ≤1600℃。 |
水冷坩埚尺寸 | 内径500mm高度600mm。 | |
坩埚容量 | 200kg。 | |
坩埚运动行程 | 600mm;具有归零位功能;设有位置检测采用数显光栅尺,分辨率1微米。 | |
坩埚运动速度 | 5-50mm/h,快速升降速度:5mm/s。 | |
在线加料系统 | 可在线添 加辅助元素。 | |
测温系统 | 设有两组测温K偶。 | |
感应熔炼电源 | 400KW。 |
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