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PECVD设备 CC-200

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更新时间:2023-05-26 14:25:50浏览次数:176次

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产品简介

Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。

详细介绍

产品简介:
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。                                     

产品特性:
• 27.12MHz高密度等离子制程
 
• SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜
 
• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
 
• 可对应有机EL(OLED)的低温成膜用heater
 
• 使用Tray可搬送多种基板尺寸
 
• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)

产品应用:
• 功率器件

• LED、LD、高速device等化合物相关

• 有机EL(OLED)开发

• 太阳电池开发

• MEMS

关键词:电池
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