详细摘要: S-500型磁控溅射PVD系统,最多可配备五个独立溅射靶位,采用涡轮分子泵组和自动压控系统等配置,适用于沉积各种金属和反应膜层
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详细摘要: S-500型磁控溅射PVD系统,最多可配备五个独立溅射靶位,采用涡轮分子泵组和自动压控系统等配置,适用于沉积各种金属和反应膜层
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产品型号:所在地:更新时间:2023-08-03 在线留言详细摘要: S-400型磁控溅射PVD系统,配备三组磁控溅射靶群及控制系统,适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能
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产品型号:所在地:更新时间:2023-07-07 在线留言详细摘要: 装置概述:装置依据国家计量技术规范的具体规范要求设计制造,可检定校准各种规格的真空计产品
产品型号:所在地:更新时间:2023-07-07 在线留言详细摘要: 系统概述:装置按照国家计量技术规范的要求设计制造,可检定校准各种规格的真空压力计
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