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深圳市甲岸科技有限公司

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等离子刻蚀机

详细摘要：在半导体封装过程中，刻蚀机常用于晶圆清洗和光刻胶的去除工艺中，在等离子体发生器中通入少量的氧气，在强电场作用下，使氧气产生等离子体，迅速使光刻胶氧化成为可挥发性...
产品型号：所在地：更新时间：2023-09-05 在线留言
外延片等离子刻蚀机

详细摘要：应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。
产品型号：所在地：更新时间：2023-09-04 在线留言
等离子刻蚀机10L

详细摘要：应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。
产品型号：所在地：更新时间：2023-09-03 在线留言
等离子刻蚀机30L

详细摘要：应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。
产品型号：所在地：更新时间：2023-09-02 在线留言
等离子刻蚀机150L

详细摘要：应用范围适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗、镀膜。
产品型号：所在地：更新时间：2023-08-31 在线留言