低温等离子技术治理废气

【资料简介】

本套系统是处理化工生产及储存时产生的气体的设备。有些气体可以采用活 性炭吸附塔简单吸附处理，有些温度高的需采用降温措施，还有些气体可采用低温等离子加光触媒的方式处理，我公司采用不同的工艺可以处理绝大多数废气，排放达到《大气污染物综合排放标准》（GB16297－1996）标准。

低温等离子技术治理废气污染具有以下优点：

1) 低温等离子体中，几乎可以和所有的气体分子作用。

2) 反应快，不受气速限。

3) 只需用电，操作简单，无需专人员看守，基本不占用人工费。

4) 设备启动、停止十分迅速，随用随开，不受气温的影响。

5) 气阻小，适用于高流速，大风量的废气处理。

6) 低温等离子体技术处理污染物时，适当控制反应条件可以实现一般情况下难以实现或速度很慢的化学反应变得十分快速。

“光触媒”（也称为“光催化剂”）的主要成分是锐钛型二氧化钛（TiO2），作为一种新的光催化半导体材料，日本已将其列为本世纪发展的新技术，被誉为当今世界上的空气净化新技术，近年来在中国也得到较广泛应用。

工艺组成

气体采用喷淋塔、气水分离器、低温等离子、UV、炭吸附塔、风机、排风筒等组成；

工作原理

尾气通过通风管道，在风机的吸引下，经风管首入喷淋塔，将其中含有的酸性成份中和处理，然后进入气水分离器，将废气中的水份分离出来，再进入低温等离子和UV， UV催化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对废气进行协同氧化反应，使废气降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出进入炭吸附塔。

废气中的有害成份在进入吸附器后进入吸附层，由于固体吸附剂表面上存在着未平衡和未饱和的分子引力或化学键力，因此当吸附剂的表面与气体接触时，就能吸引气体分子，使其浓聚并保持在吸附剂表面，利用吸附剂固体表面的吸附能力，使废气中的污染物与大表面的多孔性吸附剂相接触，废气中的污染物被吸附在固体表面上，净化后的气体高空排放。

经过以上程序废气处理后，达到净化之目的。