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PECVD设备 CX-500z

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更新时间：2023-05-27 14:21:59浏览次数：156次

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青岛益嘉元科贸有限公司

经营模式：其他

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产品简介

1.在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。 2.成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Load-lock，托盘式，多基板尺寸，2inch-8inch 兼容

详细介绍

产品简介：
1.在真空条件下，通过射频放电，让气体活化发生化学反应，在基板表面沉积形成薄膜。
2.成膜种类：SiO2，SiNx ，SiON。等离子增强型，膜质好，均匀性高，Load-lock，托盘式，多基板尺寸，2inch-8inch 兼容

产品特性：
• 等离子增强型化学气相沉积设备

• 用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积

• 膜层应力稳定,可调范围广泛

• 可换托盘式,基板尺寸切换简便

• 2～12inch,方片,未定型片兼容

产品应用：
• 功率器件，LED，光通信/传感器

• 高校及研究所等