技术指示：
1.主轴转速： 200～5000RPM，精度±1RPM，转速可调。
2.主轴加速度： 30000RPM/S，连续可调（只对涂胶）
3.工艺工步时间： 0～999.9秒，设定增量±0.1秒
4.电源条件： AC220V±10％，50Hz，总功率1.5KW
5.真空条件： 抽气量≥120立方分米/分，真空度≤-0.085Mpa，
配管外径Φ6，内径Φ4（毫米）
配管外径Φ6，内径Φ4（毫米）
6.排风条件： 排风量≥2立方分米，压强≥124Mpa，
7.废胶排放： Φ25mm接管
爱姆加电子设备有限公司专业从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有：匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤（Hot Plate）、自动涂胶显影机｜自动砂轮划片切割等设备；以及开发研制、升级换代、维修服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等*的设计手段. 产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体、太阳能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工艺、平板显示及Photo-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。 公司提供二手机台TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等厂商设备的备品、备件及应用材料的CMP设备维修翻业务。
匀胶机-爱姆加电子 产品信息
