设备主要由主轴单元、自动供给系统(光刻胶)、排风系统、控制系统等组成,采用框架结构,外表为优质不锈钢镜面护板,无发尘量且不吸浮尘颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成工艺。
主轴电机采用进口交流无刷伺服电机(德国路斯特),保证旋转转速、加速度控制精度高,重复性、稳定性好。多件套组成的防溅、废液收集、气流控制,使涂胶工艺条件达到,以形成均匀性高的胶膜,满足光刻工艺要求。
- 匀胶单元 1个(spin unit)
- 离心机
- 额定转速(德国伺服电机): 0~6000rpm
- 转速: 0~8000rpm
- 转速最小调整量: 1rpm
- 转速精度: ±1rpm(500~3000rpm)
- 加速度: 20000rpm/s
- 加速度最小调整量: 1RPM/S
- 承片台(chuck)
- 材料: 防静电PEEK材质(两个)
- 与晶片接触方式 : 真空吸附
- 吸附真空度检测: 数显压力传感器