主要特点：
- 大抽速真空系统，即插即用快捷方便；
- 最多5个独立磁控溅射靶位可轻松切换功能，快速制作多层金属和反应介质膜；
- 预设参数全自动进料和镀膜沉积无需人工干预；
- 自动样品装载系统减少污染和无效参杂并提高镀膜效率。
- 配备直流和射频源，可实现多种膜层工艺要求。
- 选配离子束辅助沉积系统，提高膜层致密性和附着力。
应用领域：
- 金属和介电膜
- 薄膜传感器的制造
- 光学元件
- 纳米与微电子
- 太阳能电池
主要功能配置说明：
- Φ500mm*450mm(h)圆形不锈钢腔室。
- 700L/s涡轮分子泵+双级旋片泵真空泵组。
- 全量程复合真空计，自动控制不同工艺压力。
- 电动压控插板阀全程压力自动控制。
- 3英寸溅射靶，可同时溅射多种材料。
- 配准备DC电源和RF电源更利于溅射多种金属和介质膜层。
- 3路MFC精密气体流量控制系统，便于镀制多种反应膜层。
- 石英晶体监测系统可实时监控多层镀膜厚度和工艺过程。
- 斜拉伸缩式触控屏可预设控制沉积过程和快速数据输入。
- 自动进料系统更便于预制样品和过程控制。
- 一键式全自动镀膜系统，无需人工干预，便于过程控制。
- 精密温控系统和基片前后加热装置可精确控制控基片＞800°C。
- 伸缩式基片挂架，可轻松调节溅射距离和切换公自转模式。
- 自动腔体外包围环绕冷却系统，避免高温镀膜时腔室壁温度过高。
- 更多PVD系统工艺说明可查阅本站点解决方案目录：/jjfa
鑫镭真空专业为科研项目和企业制作用于薄膜材料实验的小型多靶溅射PVD系统，提供各种真空镀膜工艺设备搭配定制、镀膜机机的全系统整合、升级和专用系统定制以及真空设备整机维修、安装等服务。质量可靠，提供多个案列参考。
