详细摘要： 红外后对准双面刻机 包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus则是大量生产所使用的设备。包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus则是大量生产所使用的设...
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2022-10-18 在线留言污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
武汉赛斯特精密仪器有限公司
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产品型号：所在地：武汉市更新时间：2022-10-18 在线留言
详细摘要： 原子层沉积表面改造提升处理系统 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-08-30 在线留言
详细摘要： 原子层沉积表面改性设备分子涂层 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-08-30 在线留言
详细摘要： 磁增强反应离子刻蚀机设备 是行业先的深槽刻蚀设备，可以提供理想的刻蚀速度，但同时保证侧面特征良好控制和一致性。武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学...
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-04-28 在线留言
详细摘要： 等离子刻蚀机设备一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面一阶段：武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学试验机仪器为主
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-04-28 在线留言
详细摘要： 红外后对准双面刻蚀机 是行业先的深槽刻蚀设备，可以提供理想的刻蚀速度，但同时保证侧面特征良好控制和一致性。
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-04-28 在线留言
详细摘要： 多功能磁增强反应离子刻蚀机 一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-04-28 在线留言
详细摘要： 多功能磁增强反应离子刻蚀机 实时调节工艺过程参数，以达到理想的侧面轮廓。实时调节工艺过程参数，以达到理想的侧面轮廓。
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-04-26 在线留言
详细摘要： 匀胶显影机 适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 （水）辊、涂胶槽等部...
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-03-22 在线留言
详细摘要： 无掩模光刻机 美国AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻...
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详细摘要： 全自动曝光机 OAI在半导体行业中拥有超过40年的制造经验，通过新的精英级光刻设备满足了日益增长的动态市场挑战。
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-03-22 在线留言
详细摘要： 等离子刻蚀机 提供一系列的解决方案来满足客户的生产和开发要求。通过一系列的技术的开发，SPTS能为客户提供一系列的*的工艺，比如功率MOSFET和200mm和3...
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-03-22 在线留言
详细摘要： IPG激光划片机 能适应单晶硅、多晶硅、非晶硅电池划片和硅、锗、砷化镓半导体材料的划片和切割。比如厚片（如AP公司0.7mm单晶硅多晶硅；1.2mm非晶硅带等）...
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-03-22 在线留言
详细摘要： CMP研磨抛光系统 该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理，整个过程全封闭控制，并内置自清洗功能，提升对操作人员的安全保护；全部采用...
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详细摘要： ALD原子层沉积系统 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池
产品型号：所在地：武汉市更新时间：2021-03-22 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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