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武汉赛斯特精密仪器有限公司
主营产品： 电量记录分析仪器,海缆张力弯曲卧式拉力试验机 |
公司信息
产品展示
Product| 产品图片 | 产品名称 | |||
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红外后对准双面刻机 刻蚀机 简单介绍：红外后对准双面刻机 包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus则是大量生产所使用的设备。包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus则是大量生产所使用的设备。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2022-10-18 |
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原子层沉积表面改造提升处理系统 简单介绍：原子层沉积表面改造提升处理系统 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-08-30 |
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原子层沉积表面改性设备分子涂层 简单介绍：原子层沉积表面改性设备分子涂层 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-08-30 |
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磁增强反应离子刻蚀机设备 简单介绍：磁增强反应离子刻蚀机设备 是行业先的深槽刻蚀设备，可以提供理想的刻蚀速度，但同时保证侧面特征良好控制和一致性。武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学试验机仪器为主 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-28 |
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等离子刻蚀机设备 简单介绍：等离子刻蚀机设备 一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面一阶段：武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发，以力学试验机仪器为主 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-28 |
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红外后对准双面刻蚀机 简单介绍：红外后对准双面刻蚀机 是行业先的深槽刻蚀设备，可以提供理想的刻蚀速度，但同时保证侧面特征良好控制和一致性。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-28 |
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磁增强反应离子刻蚀机 简单介绍：多功能磁增强反应离子刻蚀机 一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-28 |
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多功能磁增强反应离子刻蚀机 简单介绍：多功能磁增强反应离子刻蚀机 实时调节工艺过程参数，以达到理想的侧面轮廓。实时调节工艺过程参数，以达到理想的侧面轮廓。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-26 |
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多功能磁增强离子刻蚀机 简单介绍：多功能磁增强离子刻蚀机 由于离子体的定向运动，基面上的聚合物被去除的速度要比在侧壁的去除速度快。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-26 |
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离子刻蚀机 简单介绍：离子刻蚀机 深硅刻蚀的主要应用包括: MEMS，*封装（TSV）,功率器件等等。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-04-25 |
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匀胶显影机 简单介绍：匀胶显影机 适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 （水）辊、涂胶槽等部分组成。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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无掩模光刻机 简单介绍：无掩模光刻机 美国AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！ 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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全自动曝光机 简单介绍：全自动曝光机 OAI在半导体行业中拥有超过40年的制造经验，通过新的精英级光刻设备满足了日益增长的动态市场挑战。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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等离子刻蚀机 简单介绍：等离子刻蚀机 提供一系列的解决方案来满足客户的生产和开发要求。通过一系列的技术的开发，SPTS能为客户提供一系列的*的工艺，比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的端封装（3D封装和芯片级封装）。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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手动/半自动曝光机 简单介绍：手动/半自动曝光机 光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等； 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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IPG激光划片机 简单介绍：IPG激光划片机 能适应单晶硅、多晶硅、非晶硅电池划片和硅、锗、砷化镓半导体材料的划片和切割。比如厚片（如AP公司0.7mm单晶硅多晶硅；1.2mm非晶硅带等）。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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CMP研磨抛光系统 简单介绍：CMP研磨抛光系统 该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理，整个过程全封闭控制，并内置自清洗功能，提升对操作人员的安全保护；全部采用电脑程序控制，可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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ALD原子层沉积系统 简单介绍：ALD原子层沉积系统 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 产品型号： 所在地：武汉市 更新时间：2021-03-22 |
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