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SFEW-3型超临界纳米粒子制备设备

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更新时间:2022-09-07 15:53:23浏览次数:239次

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产品简介

超细微粒,特别是纳米级粒子的研制,在当前的*中已形成为一个热门领域,在材料、化工、轻工、冶金、电子、生物医学领域得到广泛应用。 一、概述 SFEW-3型超临界纳米粒子...

详细介绍

    超细微粒,特别是纳米级粒子的研制,在当前的*中已形成为一个热门领域,在材料、化工、轻工、冶金、电子、生物医学领域得到广泛应用。
一、概述
SFEW-3型超临界纳米粒子制备装置利用超临界流体制备细微粒子这一技术,可以进行颗粒、微球、微胶囊、多孔材料、脂质体及其它微细材料的加工和制备。超细粒子的制备有多种方法,超临界流体沉积技术作为一种*,能够更准确的控制结晶过程,能够生产出平均粒径很小的细微粒子,而且还可控制其粒度尺寸的分布。

二、制备工艺

    RESS(超临界溶液快速膨胀)法和GAS(气体抗溶剂结晶)法,由GAS法派生而来的过程有SAS、ASES(PCA)、SEDS等。RESS法制备超细微粒利用了溶质的溶解度随SCF(超临界流体)密度变化的关系,当从超临界流体状态迅速膨胀到低压、低温的气体状态,溶质的溶解度急剧下降,这个转变使溶质迅速成核和生长成为微粒而沉积。
    GAS法主要原理:当高压气体溶入含有溶质的溶液相内,使其中的溶剂发生膨胀,于是降低了溶质在其中的溶解度,导致该溶质的结晶析出。
    ASES过程与GAS过程不同之处:在ASES过程中颗粒形成与干燥同时进行,形成的颗粒中残余的有机溶剂含量少。而GAS过程的结晶沉淀过程都是在液相中发生的,需要经过长时间的洗涤操作才能得到干燥的固体颗粒。SEDS过程(超临界流体强化溶液分散的沉淀过程)是将超临界CO2、含有溶质的水溶液和有机溶剂一起喷入结晶器,并经短暂的接触和混合过程。
    超临界流体沉积技术应用有以下两种:RESS(超临界溶液快速膨胀)法和GAS(气体抗溶剂结晶)法。本装置主要采用RESS(超临界溶液快速膨胀)法,但可兼顾GAS(气体抗溶剂结晶)法。

二、主要技术参数:

1、超临界形成釜及可视结晶器工作压力:30MPa。

2、工作温度:室温-85℃

3、结晶器容积1000mL

4、超临界形成釜容积:1000mL

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