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沈阳麦科诺科技有限公司
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离子束刻蚀机 离子束刻蚀 离子束镀膜
1. 功能概述
该系统为通用离子束刻蚀系统，除了可进行传统三维结构刻蚀外，还可实现离子束清洗、材料表面抛光和材料减薄等功能，还可选配化学辅助离子束刻蚀（CAIBE）与反应离子束刻蚀（RIBE）。
2. 可加工材料
系统可用于刻蚀加工各种金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等各种材料。
3. 应用领域
广泛适用于半导体、光学、光电子、微电子、微机械、X射线近代光学、通信、导航、卫星、、雷达、核聚变、超导、生物、医学、传感器等多个技术领域，制造各种力、热、声、光、电、磁等新型材料与器件。
4. 的离子束出射能量分布技术
离子源发射口径80mm，有效束径可达80mm，有效束径大于70%。
5. *的结构设计原理
采用永磁发散场，配置可消除热形变匹配等离子体浓度分布的Mo质离子双栅光学系统，精心设计的反射式主阴极组件，一体化浸入式中和阴极与插入式阳极。工作性能优良，具有稳定性、可靠性。
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