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北京中科复华科技有限公司
产地 | 进口 |
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截止到2008年1月,ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机,50多台单独曝光系统。客户包括美国NSA和INTEL、哈佛大学、LG、菲利普、惠普、3M等,ABM在中国各地也拥有不同领域的客户,包括众多的工厂、大学和研究所等。
主要配置:
6“,8"光源系统
可支持2“,3",4“,6",8“(圆/方片)及碎片光刻
手动系统,半自动系统
支持电源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波长(可选项)
支持背后对准及MEMS工艺要求
CCD或显微镜对准系统
主要性能指标:
光强均匀性Beam Uniformity::
--<±1% over 2" 区域
--<±2% over 4" 区域
--<±3% over 6" 区域
接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um
接触式样曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um
支持接近式曝光,特征尺寸CD:
--0.8um 硬接触
--1um 20um 间距时
--2um 50um 间距时
正面对准精度 ± 0.5um
背面对准精度±1um--±2um(Depends on user)
支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻,特征尺寸:100um-300um
支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻
支持真空、接近式、接触式曝光
支持恒定光强或恒定功率模式
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