杜邦蚀刻残留物去除液 返回列表页

EFC265   接触清洁,金属线清洁，TSV深硅穿孔清洁等

杜邦™plasmasolv®ekc265™蚀刻后残留物去除

杜邦™plasmasolv®ekc265™蚀刻后残留物去除    

清洗接触，金属，穿孔和Pad

高度选择性的残留物去除 应用：        

应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业，以满足关键的清洁需求            

从高深宽比MEMS器件100μm+ 到DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序：

接触清洁            

金属线清洁

TSV深硅穿孔清洁          

钨埋位线清洗            

聚酰亚胺清洗            

Pad清洁          

MEMS清洗

特征：

所有蚀刻后铝清洗的单一解决方案

去除重有机残留物

宽工艺窗口

高产率

穿孔接触电阻降低

铝清洗行业基准