槽式清洗机,槽式清洗机价格|报价-苏州芯矽电子科技有限公司

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全自动光罩清洗设备

详细摘要：全自动光罩清洗设备是半导体制造中的关键工艺设备，用于高效去除光罩表面污染物。其通过超声波、化学清洗或等离子体技术，精准清除光刻胶残留、颗粒及金属杂质，确保光罩图...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-06 在线留言
硅片最终清洗设备

详细摘要：硅片最终清洗设备是半导体制造关键工艺设备，用于去除硅片表面杂质、颗粒及残留物。它通过化学或物理清洗方式，确保硅片表面洁净度达标准，以满足芯片制造的严苛要求。设备...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-06 在线留言
酸孔蚀刻机_湿法刻蚀机

详细摘要：具备高度均匀的蚀刻能力，可精确控制孔的深度、直径等参数。其蚀刻过程稳定，能保证孔壁的光滑度和垂直度。通过流体力学设计和控制系统，适应不同工艺需求，确保蚀刻效果的...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-03-07 在线留言
CMP预清洗机

详细摘要： CMP预清洗机是一种用于半导体制造领域的专业设备。在化学机械抛光（CMP）工艺前，它发挥着关键作用。其能有效去除半导体硅片、晶圆等表面的污垢、杂质及残留物，为后...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-03-07 在线留言