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苏州芯矽电子科技有限公司

经营模式：生产厂家

商铺产品：28条

所在地区：江苏苏州市

联系人：芯矽电子（客服）

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RCA清洗机实现晶圆纳米级洁净处理

详细摘要： RCA清洗机是半导体制造中用于晶圆表面洁净处理的核心设备，基于标准RCA工艺（SC-1硫酸/双氧水去有机物、SC-2氢氟酸去氧化层），通过化学湿法结合兆声波或喷...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-20 在线留言
酸腐蚀清洗机

详细摘要：酸腐蚀清洗机是一种用于金属、半导体及精密部件表面处理的湿法化学设备，通过酸性溶液（如硫酸、盐酸、硝酸或混酸）去除氧化层、锈蚀、焊后残留及微观污染物。其核心优势包...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-20 在线留言
wafer清洗设备

详细摘要：晶圆清洗设备是半导体制造中的关键工艺设备，用于去除晶圆表面的颗粒、有机物、金属污染及氧化层等污染物，确保后续制程的良率与可靠性。其技术涵盖湿法化学清洗（如硫酸/...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-20 在线留言
去胶清洗机

详细摘要：去胶清洗机是半导体、光电等领域关键设备，用于去除光刻胶、聚合物等残留物。其技术涵盖化学湿法清洗（如硫酸/双氧水配方）、超声波空化剥离及等离子干法去胶，可针对晶圆...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-20 在线留言
片盒清洗机

详细摘要：片盒清洗机是半导体制造中用于清洁晶圆承载盒（如FOUP）的专用设备，旨在去除片盒表面的颗粒、有机物及工艺残留物，确保晶圆传输过程中的洁净度。其核心功能包括自动化...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-20 在线留言
boe湿法清洗机

详细摘要： BOE湿法清洗机是半导体制造中用于晶圆表面氧化层刻蚀与清洁的关键设备，通过化学湿法工艺实现高效洁净处理。广泛应用于光刻、刻蚀后清洗及TSV三维封装前处理，适配硅...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-19 在线留言
半导体炉管清洗机

详细摘要：半导体炉管清洗机是用于去除石英/陶瓷炉管表面化学残留、颗粒及氧化层的专用设备，核心目标为恢复炉管洁净度以保证扩散、氧化等工艺的稳定性。其采用高纯度去离子水（DI...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-19 在线留言
芯片清洗机

详细摘要：芯片清洗机是半导体制造中用于去除晶圆表面颗粒、有机物及化学残留的关键设备，确保纳米级洁净度（Class 10级）。采用高纯度去离子水（DI水，电阻率≥18.2M...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-19 在线留言
最终清洗机确保无残留污染物

详细摘要：最终清洗机是半导体制程中确保晶圆/炉管表面纳米级洁净的关键设备，专为去除化学残留、颗粒及有机物设计。采用高纯度去离子水配合兆声波震荡，实现无损伤清洗；集成离心干...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-19 在线留言
槽式清洗机

详细摘要：槽式清洗机是一种用于批量清洗物品的自动化设备，广泛应用于半导体、电子、光学等领域。它通过将待清洗物品放入盛有特定化学试剂的槽中，利用超声波在液体中的空化作用产生...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-13 在线留言
全自动BOE蚀刻机

详细摘要：全自动BOE蚀刻机是半导体制造中用于去除晶圆氧化层（如SiO₂）的关键设备，通过氢氟酸（HF）与氟化铵（NH₄F）混合液（Buffered Oxide Etch...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-12 在线留言
SPM腐蚀清洗机

详细摘要： SPM腐蚀清洗机是半导体制造中去除晶圆表面有机物及金属污染的核心设备，通过硫酸与双氧水混合液（SPM）的强氧化性实现高效腐蚀清洗。其关键功能包括光刻胶剥离、金属...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-12 在线留言
单晶圆湿法清洗机

详细摘要：单晶圆湿法清洗机是半导体制造中用于单片晶圆表面清洁的关键设备，通过化学溶液（如SC-1、DHF等）结合兆声波、超声波等物理技术，高效去除有机物、金属污染及颗粒残...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-12 在线留言
半导体硅片清洗机

详细摘要：半导体硅片清洗机是芯片制造中的关键设备，用于去除晶圆表面污染物（如颗粒、有机物、金属残留），确保高精度工艺良率。其核心采用湿法化学清洗（如RCA工艺）结合兆声波...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-12 在线留言
单晶圆湿法清洗设备

详细摘要：单晶圆湿法清洗设备，专为高精度芯片制造设计。它采用湿法工艺，能精准去除晶圆表面杂质与污染物。具备高清洗均匀性，确保晶圆各区域洁净度一致。自动化程度高，操作便捷，...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-12 在线留言
晶圆单片清洗机

详细摘要：晶圆单片清洗机是半导体制造中用于单片晶圆表面污染物（颗粒、有机物、金属离子等）去除的高精密设备，通过逐片独立处理避免交叉污染，适用于制程节点。其核心技术包括伯努...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-08 在线留言
wafer清洗机

详细摘要： Wafer清洗机是半导体制造中用于去除晶圆表面污染物（颗粒、有机物、金属杂质等）的关键设备，通过物理、化学或机械原理实现高洁净度清洗。其主要技术包括超声波清洗（...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-08 在线留言
半导体湿法设备化学腐蚀超声波

详细摘要：半导体湿法设备是晶圆制造、封装及器件加工中的关键工艺设备，通过化学腐蚀、电化学处理、超声波空化、流体冲洗等技术，实现纳米级洁净度与微观结构调控。其核心在于精准控...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-07 在线留言
边抛后清洗机(EPC)

详细摘要：边抛后清洗机是半导体、光学及精密制造关键设备，通过湿/干法去除抛光残留。核心流程含化学去氧化、兆声波剥离、超纯水冲洗及真空干燥，在Class 10环境下完成。支...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-07 在线留言
SPM全自动超声清洗机

详细摘要： SPM全自动超声清洗机是半导体制造中用于高效清洁精密部件的关键设备，通过超声波空化效应结合化学溶剂（如硫酸、过氧化氢等）去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金属...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-05-06 在线留言