桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改变晶圆表面的亲水性，从而增大晶圆表面的接触角），增强光刻胶和晶圆的粘附力。

碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化镓等材料表面后，经系统加温可反应生成以...

HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合...

HMDS涂胶烤箱，MES接口hmds涂布机的主要作用是对晶圆做表面处理，以增加光阻在晶圆表面的附着力。当晶圆送到黄光区时，表面可能有含水层，高温烘烤后去除水气，...

智能型HMDS蒸镀机台是一种 具有预处理性能更好，处理更加均匀，效率高，更加节省药液特性的智能型烘箱。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶...

SECS/GEM通讯HMDS镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处...

HMDS烘箱真空泵，IDP10无油泵泵具有密封设计，电机和轴承与真空环路全隔离，延长了轴承的使用寿命，并提供洁净、无油的真空条件。IDP 泵采用单面涡旋设计，可...

HMDS蒸镀系统，无尘HMDS烤箱​通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS...

HMDS蒸镀真空烤箱，芯片HMDS蒸镀烤箱HMDS的HMDS蒸镀就是利用惰性气体（例如氮气）带着HMDS的蒸汽通过芯片表面,而在晶面上形成一层薄膜

HMDS 烘箱是将HMDS蒸汽通过干燥的真空腔内加热到(120-150°C)，在衬底表面上HMDS作为单层膜进行化学结合。

HMDS真空烘箱处理系统：性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一...

HMDS烤箱，HMDS真空烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。

HMDS镀膜机，黄光区镀膜设备通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后...

HMDS烤箱供应将HMDS涂到LED、半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。

HMDS烤箱将HMDS涂到LED、半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表...

HMDS烘箱真空泵，HMDS系统用油泵在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂...

六甲基二硅胺烷HMDS涂胶烤箱，HMDS真空烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了H...

HMDS真空烘箱，hmds涂胶烘通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅...

HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处...

增粘剂烤箱，HMDS烘箱将HMDS涂到LED、半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成...