当前位置:上海隽思实验仪器有限公司>>HMDS烘箱>>HMDS预处理系统>> 六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱
材质 | 不锈钢 | 工作室尺寸 | 450mm |
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功率 | 3.0 | 加工定制 | 是 |
类型 | 真空 | 适用范围 | 六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理 |
温度范围 | 250℃ |
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的作用
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理的工艺是匀胶前衬底“增附"处理。在光刻中,通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底,这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想,这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹"甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善,这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的性能
HMDS药液低液位报警:
自动吸取HMDS:
可自动添加HMDS:
HMDS药液泄漏报警:
HMDS气体管路加热系统:
参数记录功能:
温度与程序互锁功能:
容积大小:350*350*350/450*450*450/600*600*600(mm)可定制
温度范围:RT+10-250℃
真空度:≤133pa(1torr)
控制系统;人机界面+PLC
搁板层数:2层
HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量
真空泵: 涡旋无油泵
不正确的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理方法
如果液体的HMDS被直接旋涂在衬底上,HMDS层只能起到物理上的粘附层的作用,并不能改善粘附性;其次,HMDS层在前烘过程中释放出氨,从衬底附近的进入交联的光刻胶层中,从而抑制显影过程。
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