超大尺寸匀胶设备 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工艺。设备可分别配置主轴旋转装置、 光阻供液系统（腔体清洗液）、排风系统、上料装置、控制部份等；设备具有如下特点： 占地面积相对较小，适应范围广。 具备故障诊断，历史记录追忆功能。 操作界面简捷，配方编制、储存、编辑、调用灵活。 整机采用框架结构，工作方式为手动上下基片，自动完成边缘清洗工艺。 设备依 GB/T19001-2008 ；GB/T24001-2004；GB/T28001-2001；SEMI SⅡ标准制造。
爱姆加电子设备有限公司专业从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有：匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤（Hot Plate）、自动涂胶显影机｜自动砂轮划片切割等设备；以及开发研制、升级换代、维修服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等*的设计手段. 产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体、太阳能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工艺、平板显示及Photo-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。 公司提供二手机台TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等厂商设备的备品、备件及应用材料的CMP设备维修翻业务。
大尺寸匀胶机 产品信息
