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DMD激光直写光刻机

参   考   价: 20

订  货  量: ≥1 件

具体成交价以合同协议为准

产品型号ZML10A

品       牌其他品牌

厂商性质生产商

所  在  地北京市

更新时间:2025-05-15 07:56:49浏览次数:65次

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桌面小型化

无掩模光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合先进的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所得",极大提升了操作便捷性和工艺可控性。它的光路结构和高精度直线电机位移台确保了曝光精度和重复定位能力,同时配备CCD相机逐场自动对焦系统,进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能,能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间,还便于在实验室或生产环境中部署。此外,ZML10A配备了直观易用的软件界面,大幅降低了操作门槛,即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备,ZML10A都能提供可靠的支持,是科研工作者和工业用户的理想选择。


技术特点

▲ 桌面小型化

▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源

▲ 黄光/绿光引导曝光,所见即所得

▲ CCD相机逐场图像自动对焦

▲ 高精度直线电机位移台

▲ 易于操作的软件界面


光路远离结构图

DMD激光直写光刻机




主要指标


关键技术指标
紫外光源中心波长405nm
曝光均匀度90%
最小特征线宽0.5um
单次写场曝光面积0.6*0.4mm(@0.5um)
刻写速率3mm^2/min(@0.5um)
配置基础版专业版
光源强光LED:405nm
DMD芯片DLP6500
单场曝光面积0.6*0.4mm(@0.5um)、1.2*0.8mm(@0.8um)
2.4*1.6mm(@1.5um)、12*8mm(@8um)
相机大靶面显微相机(支持尺寸测量)
套刻精度1um0.7um
刻写速度3mm²/min(@0.5um)20mm²/min(@0.5um)
运动台高精度直线电机(重复定位精度±0.5um)调平机构、手动旋转台高精度直线电机(重复定位精度±0.5um)调平机构、电动旋转台
物镜转换器手动物镜切换电动物镜切换
对焦模组CCD图像自动对焦激光主动对焦
支持硅片尺寸4inch8inch


应用案例

DMD激光直写光刻机

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