感应耦合等离子体刻蚀机（ICP） 返回列表页

应用方向：科研与教学

产品优势：耐氯基强腐蚀气体，带双片送取样室（Load-Lock）

产品配置：

★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蚀材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蚀腔体：高真空系统

★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。双片装，样品自动运送。

★刻蚀不均匀性：±3%-±6%

★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）

★工作台：可升降，包含水冷

★电源配置：上电射频，下电偏压，包含自动匹配

★气路数量与种类：6路气路，其中2路耐腐蚀VCR焊接 或 用户选配

★深硅刻蚀系统：可选配

★He冷背吹系统：可选配

★终点检测控制：可选配质谱仪

★操作模式：全自动+半自动控制