PHABLE设备基于Eulitha采用的位移塔尔博特光刻(DTL)技术，通过低成本的光刻系统提供高分辨率光刻。DTL克服了传统光刻中衍射的局限性，可曝光出质量优异的亚微米周期图案。非接触式曝光可同时保护掩模版和晶圆，无聚焦成像技术可实现在非平面基材和厚光刻胶上进行均匀曝光。
PhableR具备以低成本光刻系统曝光高分辨率周期性结构的能力。它类似于传统的紫外曝光机，将涂有光刻胶的晶圆接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技术，分辨率不再受到不希望出现的衍射效应的限制。如亚微米周期线性光栅和二维图案等结构(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均匀性和保真度。
应用广泛，包括:
学术(R&D)
XR (AR / VR /MR)
光电子学
光学元件
生物/医学
色彩/视觉效果
光刻技术服务
