大型HMDS真空烘箱，4门HMDS真空烤箱 是半导体光刻工艺中的关键设备，主要用于基片表面预处理，通过六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增强光刻胶与基片的黏附性。

硅烷沉积设备 抗粘剂蒸镀系统 纳米抗粘设备通过表面修饰的模板,可以大大降低模板与压印聚合物层之间的相互作用力,在纳米压印过程中实现结构较好的转移,复制.

抗黏剂蒸镀机 抗粘剂涂胶机 硅烷气相镀膜机通过精确控制烘箱温度（100-200℃）、处理时长及保持时间等参数，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机气相沉积系统硅烷偶联剂（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三滤硅烷等）作为一类重要的有机硅化合物，在材料表面改性、复合...

HMDS涂布机，HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理， HMDS 涂布的原理，较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻胶的黏附性工艺中，实...

可程式HMDS蒸镀设备，HMDS真空镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了H...

气相成底膜烤箱，HMDS蒸气淀积系统用于除去硅片表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子），除去水蒸气，使基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（H...

智能型HMDS涂胶机，自动HMDS涂胶镀膜机也称为HMDS处理，是用于使晶片表面呈疏水性的处理。

HMDS涂胶机，智能型HMDS涂 胶机将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物...

光刻工艺HMDS镀膜机，MOS器件HMDS镀膜 机涂布工艺是改善晶圆表面接触角的关键步骤。

HMDS镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降...

HMDS涂胶系统，HMDS涂胶烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处...

HMDS镀膜机设备。整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。

抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏层，抗黏层一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

脱模剂蒸镀机，脱 模剂镀膜烤箱应用于半导体，光电、电子行业硅片、砂纸或石英硬模板等材料。