乙烯基三甲氧基硅烷涂胶机 VTMS沉积系统 是含硅基和羟基的硅烷偶联剂，可用于提高不同复合材料的润湿性和超疏水性。

PETG/IPN/TPU膜材料烘箱牙胶片防氧化烘箱无氧烘箱也适用于LCP膜固化处理、PI固化、BCB等材料固化生产。

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉通过其化学性质，在光刻胶中发挥着调整极性、优化图形转移效果的重要作用，是微细制造领域的关键材料之一。

高温低湿烘箱 超低湿高温烤箱在晶圆封装前需在150~180℃、湿度≤5%RH的环境中进行去湿处理，防止金属键合层氧化失效‌

洁净无氧烤箱 充氮洁净烤箱 高温固化烤箱应用场景半导体行业‌：晶圆脱泡、LCP纤维烘烤、光刻胶固化（如PI/BCB/PBO涂层）/晶圆退火、电子元器件制造（前烘...

紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱主要应用于UV胶水、UV 油墨、UV光油、UV 油漆、UV 涂料、薄膜等 UV 光感材料的固化，3D打印固化，新型材...

程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱‌智能控温系统‌：PID精准调节技术，温度波动≤±0.5℃，确保材料干燥均匀性，避免热敏成分破坏。‌真空环境优...

桌上型无氧烘箱 实验高温无氧固化炉是一种专为高精度电子元件、IC/芯片、PI/BCB/CPI/BPO等胶水等材料设计的紧凑型固化设备，结合无氧环境与高效加热技术...

大型HMDS真空烘箱，4门HMDS真空烤箱 是半导体光刻工艺中的关键设备，主要用于基片表面预处理，通过六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增强光刻胶与基片的黏附性。

硅烷沉积设备 抗粘剂蒸镀系统 纳米抗粘设备通过表面修饰的模板,可以大大降低模板与压印聚合物层之间的相互作用力,在纳米压印过程中实现结构较好的转移,复制.

硅烷沉积系统 气相沉积设备硅烷涂胶机是一种用于硅烷（Siih₄）作为前驱体的薄膜沉积设备，主要用于半导体、纳米压印脱模工艺、光伏（太阳能电池）、显示面板、玻璃、...

智能型无尘无氧烘箱高温氮气无氧PI烤箱电子胶体固化：银胶/BCB胶/光刻胶高温固化（300-450℃）晶圆加工：退火处理、PI膜烘烤（±1℃波动精度）...

抗黏剂蒸镀机 抗粘剂涂胶机 硅烷气相镀膜机通过精确控制烘箱温度（100-200℃）、处理时长及保持时间等参数，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机气相沉积系统硅烷偶联剂（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三滤硅烷等）作为一类重要的有机硅化合物，在材料表面改性、复合...

疏水处理设备疏水性处理系统 HMDS预处理是一种改善物体表面性质的技术，使其具有疏水性，即不易被液体湿润。

表面疏水性处理设备陶瓷玻璃疏水处理机通过气相涂布硅烷偶联剂HMDS实现陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接触角为118‑135度，且疏水材料与陶瓷基体的的附着性能...

纳米陶瓷材料表面疏水HMDS处理系统生产工艺周期短，提高生产效率；修饰液用量极少，节约成本90%；闭环的工艺过程，安全系数高。

真空存储箱真空保存箱 桌上真空储存柜用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体， 电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片...

MSD烘箱高温超低湿烘箱湿敏烤箱 烘焙容易产生老化，以及烘焙受潮超过 0.1wt%的元件产生损 害等原因，推荐使用 40°C + 5%RH 或是 90...

超低湿烘箱高温低湿烤箱湿敏原件烘箱满足各种湿敏元件烘烤条件的专用烘烤设备，可实现：40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh125℃~150℃/&...