精密热板光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤"，简称后烘或坚膜，英文为Post Ex...

精密高温热板，掩膜版加热台采用高性能电热管加热，升温快，热效率高，使用寿命更长，维护简单；

高精度数显恒温加热台光刻光刻工艺中需要烘烤的步骤有：预烘培和底漆涂敷、软烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤

充氮恒温热板，氮气高温加热台应用于精密电子元件、PI、BCB胶高温固化烘烤、银胶固化、掩膜版烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、...

半导体光刻胶烤胶机，基片烘胶台定制支撑pin材料边缘支撑pinN2吹扫，无氧化烘烤烘焙距离可调模组真空腔体智能型控制系统

精密烤胶机，高精度烘胶台是我司针对研究的需要设计了一种温度控制精度高,板面温度均匀性好,成本低的电加热板,用于光刻胶的烘干.

精密烤胶台，高精度烘胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、...

小型烘胶台定制，恒温烤胶台说明对一些温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷等）进行加热和装卡尤为适用。设备结构简单，操作简便，安全可靠，是从事半导体热处理、材料研究...

可程式恒温加热台，可替代进口的精密热板用于半导体光刻工艺的烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。适用于材料学、IC芯片、半导体、医疗、冶金学、生物化学、有机...

高精度晶圆热板，恒温加热台用于固化光刻胶、晶圆烘烤、光刻工艺软烘（前烘）、硬烘（坚膜）、掩膜版烘烤、柔性电路板烘烤、固化环氧塑脂等，可用于显微镜下使用以及其它需...

掩膜版烘烤机，光罩版恒温热板适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。

均匀性0.5度的恒温加热台，可编程恒温热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路...

智能型烤胶机，自动烤胶台适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、...

高精度加热台，精密热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核...