当前位置:上海隽思实验仪器有限公司>>HMDS烘箱>>HMDS烤箱>> 碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
材质 | 不锈钢 | 工作室尺寸 | 45mm |
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功率 | 2500 | 加工定制 | 是 |
类型 | 真空 | 温度范围 | 200℃ |
碳化硅HMDS烘箱的背景
碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,也是目前晶体生产技术和器件制造水平成熟,应用广泛的宽禁带半导体材料之一,目前已经形成了全球的材料、器件和应用产业链。
碳化硅(SiC)是由硅(Si)和碳(C)组成的化合物半导体材料。其结合力非常强,在热、化学、机械方面都非常稳定。SiC存在各种多型体(多晶型体),它们的物理特性值各有不同。
碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱的作用
HMDS烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱主要性能:
空间(mm):300*300*300
450*450*450
600*600*600,可定制
适用产品:兼容1-12寸晶圆及碎片
温度范围:RT+10-250℃
温度稳定度:≤±0.5℃
真空度:≤133pa(1torr)
材质:316L不锈钢+冷轧板喷塑
HMDS系统:密闭设计,自动开启,数据可设定
液位计:低液位报警
储液瓶:HMDS储液量1000ml
真空泵:无油涡旋真空泵
运行时间:20Min
计量单位:S/Pa
运行方式:自动运行
进气:N2
排气:有机排放
电源:220V、50-60HZ
功率:2800W
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