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当前位置：上海隽思实验仪器有限公司>>HMDS烘箱>>HMDS预处理系统>> JS-MOL00HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机
| 材质 | 316L不锈钢 | 工作室尺寸 | 45mm |
|---|---|---|---|
| 功率 | 2500 | 类型 | 真空 |
| 适用范围 | MEMS,氮化镓，砷化镓，半导体 | 温度范围 | 230℃ |
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机用途
使用HMDS（六甲基二硅氮烷）对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布，以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转，形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机应用行业
MEMS系统
CVD薄膜；
光刻
用于光刻胶附着力的 HMDS
作为聚合物和基材之间的粘合层
作为印章和聚合物材料之间的非常薄和保形的离型层；
喷墨
防止墨水积聚在喷嘴面板上，确保墨水流动不受限制；
生物MEMS
亲水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善润湿性，或防止蛋白质吸收，或减少器件性能的“漂移"
微阵列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白质、抗体、组织；
光学和 AR/VR 应用
修改光学特性
创建纳米压印层或钝化层；
图像反转
金属剥离工艺，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的无蚀刻工艺；
HMDS烘箱 图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机技术性能
材质：内箱采用316L医用级不锈钢
工艺温度：100-150℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人机界面，一键作业
层数:2层
HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量
图像处理：图像反转
真空泵: 进口无油泵
保护装置：紧急停止，HMDS药液泄漏报&警提示，HMDS低液位报&警，超温保护，漏电保护，过热保护等
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